HELIOS – 与众不同的新方案，应用于光学、电子和机械领域
HELIOS独特的“反应磁控溅射”工艺确保得到超高品质的薄膜，完全适用于光学/电子学和机械领域；精密的系统设计使HELIOS的高可靠性和低运行成本达到完美统一。
全自动上料
HELIOS 可镀制介质、半导体、金属及混合薄膜。我们已经成功的将半导体工业标准的 Load Lock 过渡室和全自动盒式上料系统用于薄膜制备。
从精密光学跨越到光电子领域
HELIOS不仅在镀制精密光学领域里的彩色滤光片、UV-IR-filter、 高精度的分波器等应用上具有出色的表现；并可以镀制应用于光通信的CWDM滤片。 HELIOS 在固体激光器（LD）或传感器波导器件中超高要求增透膜、高反膜的镀制中得到了无与伦比的薄膜品质。
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