特殊设备－为复杂工艺设计的新机型
为了解决某些客户独特而复杂的要求,莱宝光学德累斯顿在原有的真空标准技术的基础上为客户设计新的解决方案.
新系统、新应用
我们的超高真空镀膜系统UHV满足了客户某些极端敏感的应用,例如EUV和DUV以及半导体器件，这些系统既可以使用磁控溅射技术也可以使用电子束蒸发技术。
独树一帜的NESSY
我们的"new UHV sputtering system"在德国耶那的应用光学及精密工程研究院扮演者重要的角色.除加尼弗尼亚大学的Lawrence Liver- more国家实验室 拥有的一台设备之外,NESSY是目前世界上唯一利用磁控溅射技术镀制450mm直径的图像收集器的设备.
